Китай создал прототип EUV-машины с помощью экс-сотрудников ASML

Китайские ученые, по сообщениям Reuters, создали прототип установки для производства чипов с использованием так называемой «экстремальной ультрафиолетовой литографии» (Extreme Ultraviolet Lithography, EUV). Это сложная и дорогая технология, позволяющая выпускать современные полупроводники для искусственного интеллекта и смартфонов. Интересно, что над прототипом работали бывшие инженеры нидерландской компании ASML — мирового монополиста в данной области. Работы шли в Шэньчжэне, а тестирование новой машины началось в начале этого года.

Пока прототип не способен изготавливать крошечные чипы, которые используются в процессорах Intel или корпорации TSMC. Но, по данным, у него уже получается генерировать нужное ультрафиолетовое излучение — ключевой момент для производства современной электроники. Амбиции Китая впечатляют: страна рассчитывает начать полноценное собственное производство таких чипов уже в 2028 году, но скептики строят прогнозы на 2030-й, иронично улыбаясь в сторону китайских дедлайнов.

EUV — технология не для слабонервных: оборудование стоит миллиарды долларов, производство — высший пилотаж в мире техники. Соединенные Штаты долго корректировали экспорт и держали соответствующую аппаратуру под замком, что превратило EUV в геополитический козырь. Президент КНР Си Цзиньпин сделал ставку на полную независимость Китая от иностранных цепочек поставок, а на слова источника Reuters: «Китай хочет, чтобы Соединенные Штаты были полностью вытеснены из китайских цепочек поставок», — Запад, похоже, реагирует нервной икотой.